本文標題："光學技術(shù)將有可能達到相當于電子顯微鏡的解析度"
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自 1872 年 Abbe 提出繞射極限的概念以來，科學家們一直試圖突破這個障礙，
讓我們能看到更微觀的世界。
在 1980 年代隨著控制技術(shù)的進步而有近場光學顯微技術(shù)的發(fā)展，對奈米尺度的光學
特性研究有了重大的突破。但受限于以光纖尖端掃瞄成像的方式，只能觀察樣本表面。而后
在 90 年代中，提出 STED 的概念之后，到目前已經(jīng)成功在遠場觀測下驗證了小于繞射極限一個數(shù)量級以上的解析度，
同時依據(jù)螢光分子的特性，設計出許多原理類似，手法不同的遠場奈米顯微技術(shù)。相信在不久的將來，
光學技術(shù)將有可能達到相當于電子顯微鏡的解析度，
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光學技術(shù)將有可能達到相當于電子顯微鏡的解析度,熒光顯微鏡現(xiàn)貨供應
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